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新型高性能氮化铝基板
与传统基材相比,我们的新型基材 Alunit® AlN HP(高性能氮化铝)具有令人信服的优势,其抗弯强度提高了 40%,同时还具有出色的导热性--例如,可应用于发电和配电、车辆电气化以及轨道车辆制造中的电力转换器。
Alunit® AIN HP 具有≥ 450 兆帕的高抗弯强度,即使在极端的温度循环条件下,也能在导电金属和陶瓷基材之间形成永久粘结。Alunit® AIN HP 的热膨胀系数为 3.7 - 5.7 ppm/K(最高温度为 300°C),接近于典型的半导体材料。因此,Alunit® AlN HP 提高了电源模块的连续负载能力。
Alunit® AlN HP 的其他优势还包括 170 W/mK 的高热导率以及 20 °C 时≥15 kV/mm 的电绝缘和介电强度。此外,还可在铜或铝上进行金属化(这在电力电子设备中很常见),以及在 DCB(直接铜键合)或 AMB(活性金属钎焊)陶瓷基板上进行金属化。
高功率、高温度的理想选择
Alunit® AlN HP 不仅是高电压和高性能功率模块的理想选择,也是大功率 LED 和片式电阻器的理想选择,甚至特别适用于更大的电流和更小的元件。在这些应用领域,Alunit® AlN HP 陶瓷基板在技术上优于 PCB 材料等。我们提供的基板规格为 138.0 x 190.5 x 0.635 毫米,也可根据要求提供其他厚度(如 1.00 毫米)的基板。
陶瓷: 现代技术的驱动力
随着高科技基材 Alunit® AlN HP 的开发,我们正在支持工业逐步实现去碳化和电气化,例如在电动汽车、加热、冷却或电能转换和分配领域。为此所需的电子模块必须满足更小尺寸的极端要求: 从最佳挠曲强度、高导热性、出色的电绝缘性到最小膨胀系数。